日本2027年摄影镜
从 2027年4月7日 开始，直到 2027年4月9日。
时横滨 – 日本神奈川县横滨的太平洋酒店(单位:千美元) 显示地图页:1
请在参加之前，再次确认下方主办方所给出的日期和地点是否正确。
Photomask Japan 2027是第33届摄影面具和NGL面具技术专题讨论会,于2027年4月7日星期三至4月9日星期五在日本横滨市西九区Minato Mirai的PACIFICO YOKOHAMA附属大厅举行,时间为1-1-1日.
专题讨论会由日本摄影面具公司和SPIE组织,由日本宇宙航空研究开发公司和EMLC共同组织,与日本SEMI合作举办了一次技术展览。 官方语言为. 该方案包括:光面板材料;用于开发、蚀刻和清洁的口罩制造工艺步骤和设备;包括多波束EB写作器在内的光面板写作工具和技术;计量、检查和维修工具和技术;欧盟甚高频、NIL和FPD口罩的技术和基础设施;EDA、MDP、curvilinear ILT和DTCO;具有RET的光面板,如PSM、OPC、SMO和多种图案制作技术;与光面板有关的印刷技术;NGL口罩技术及其应用,包括DSA;全面罩解决方案的战略和业务挑战;半导体和电子设备的图案技术;半导体制造技术;高级包装和芯片;电子束直写和电子束平面印刷技术;应用AI进行研发和高容量制造效率;成熟无孔罩的遗留工具。 一个专门的会议范围涵盖学术界为大学生和博士后研究人员提供的照相面具和石刻技术,并颁发最佳学术海报奖和HOYA学术奖.
摘要通过PMJ网站以电子方式以PDF形式提交;提交截止日期为2026年11月30日,手稿截止日期为2027年3月31日. 2027年1月底前通过电子邮件发出接收通知。 日本Photomask秘书处是PCO公司,2-25 Sakurabashidori,Toyama 930-0004,日本([email protected]);SPIE程序协调由[email protected]处理.
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